MADRID, 8 (EUROPA PRESS)
Según han informado las partes, las empresas destinarán a este fin un total de 388.300 millones de yenes (2.481 millones de euros) de los que 289.200 millones de yenes (1.848 millones de euros) corresponderán a Rohm y otros 99.100 millones de yenes (633 millones) a Toshiba.
Asimismo, el Gobierno japonés prevé aportar un subsidio máximo equivalente a la tercera parte de la inversión, lo que resulta en 129.400 millones de yenes (827 millones de euros).
De este modo, Toshiba aumentará la capacidad de producción de componentes de silicio en una próxima planta en la prefectura de Ishikawa, mientras que Lapis semiconductor, filial de Rohm, aumentará su capacidad de producción de dispositivos y obleas de carburo de silicio en una planta en la prefectura de Miyazaki.
Se trata de la primera colaboración entre las empresas, después de que Rohm participara en el consorcio liderado por la firma de capital privado Japan Industrial Partners (JIP) que ha privatizado Toshiba. ?
